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陶瓷基片

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氮化硅

陶瓷基片

                               氮化硅(Si3N4)陶瓷
    氮化硅陶瓷是一種燒結(jié)時(shí)不收縮的無(wú)機(jī)材料。它是用硅粉作原料,先用通常成型的方法做成所需的形狀,在氮?dú)庵屑埃保玻埃啊娴母邷叵逻M(jìn)行初步氮化,使其中一部分硅粉與氮反應(yīng)生成氮化硅,然后在1350℃~1450℃的高溫爐中進(jìn)行第二次氮化,反應(yīng)成氮化硅。用熱壓燒結(jié)法可制得達(dá)到理論密度99%的氮化硅。 
分子式
Si3N4
相對(duì)分子質(zhì)量
140.28
顏色
灰色、灰黑色
晶系
六方晶系。晶體呈六面體
陶瓷片制備方法
熱壓法
相對(duì)密度
99.5%
密度
3.2+/-0.02 g/cm3
莫氏硬度
9~9.5
熔點(diǎn)
1900℃(加壓下)。通常在常壓下1900℃分解
熱膨脹系數(shù)
2.8~3.2×10-6/℃(20~1000℃)
比熱容
0.71J/(g·K)
熱導(dǎo)率
15~ 20W/(m·K)
彈性模量
300~320 GPa
斷裂韌性
6.0~7.0 MPa.m
抗彎強(qiáng)度
650~750 Mpa
韋泊模數(shù)
10~12
溶解度
不溶于水。溶于氫氟酸。
氧化溫度
在空氣中開(kāi)始氧化的溫度1300~1400℃

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